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【産業動向】 半導体製造装置のASML、台湾で600人採用　EUV露光装置好調で
2018-03-07 10:54:59
半導体業界で、極端紫外線リソグラフィ（EUV）露光装置を採用する先進製造プロセスが量産段階に突入することによる需要増で、半導体製造装置大手のオランダASMLが台湾で600人の採用を計画しているようだ。

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    【ソース：】TRI