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【産業動向】 凸版、上海工場の最先端フォトマスク量産で成果
2018-06-28 10:05:27
中国のネットメディア『DeepTech』は2018年6月26日付で、凸版印刷（Toppan）が先ごろ、中国上海でフォトマスクの技術フォーラム「Toppan Technology Forum」を開き、最先端半導体に対応した次世代EUVフォトマスクで既に300個超のサンプルを出荷する等、半導体メーカーがEUV先進プロセスの量産化を速やかに導入するための手助けが可能だと表明したと伝えた。

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    【ソース：】TRI