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【半導体】半導体世界4大手とASML製EUV露光装置の世代交代
2021-03-24 11:31:36
台湾の経済紙『工商時報』は2021年3月23日付で、蘭ASMLがEUV（極端紫外線リソグラフィ）露光装置の世代交代を加速すると題した記事を掲載、半導体の世界4大大手である米インテル（Intel）、台湾TSMC（台積電）、韓国サムスン電子（Samsung Electronics）、韓国SKハイニックス（SK Hynix）が21年、スループット（1時間当たりのウェハ処理枚数=WPH）を160枚に引き上げた開口数（NA）0.33の最先端EUV露光装置を導入して生産規模を拡大するとし、同時に、最大でスループット220枚が可能な開口数0.55（High NA）の次世代技術の開発で先の4大手がそれぞれASMLと協働し、25年に量産段階に入る予定だと報じた。

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    【ソース：】TRI