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【半導体】中国SMICの最先進技術、40・45nmに後退の恐れ　28nm DUV禁輸で　DIGITIMESレポート
2023-03-16 12:05:40
調査会社DIGITIMES Researchは2023年3月14日に公開したレポートで、日本とオランダが23年1月、米国による先端半導体製造装置の対中輸出制限に歩調を合わせることで合意したのを背景に、オランダ当局が早ければ23年4月、28nm（ナノメートル）より先進プロセス半導体製造に使われる深紫外線（DUV)露光装置を対象とした対中禁輸措置を公表する見込みで、ファウンドリ中国最大手SMIC（中芯国際）は最も先進のプロセスが40・45nmに後退する恐れがあるとの見方を示した。

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    【ソース：】TRI