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【半導体】中国SMEE、28nm国産DUV液浸露光装置の開発成功の報道　23年末出荷
2023-07-28 11:06:10
中国紙『証券日報』は2023年7月26日付で、露光装置の中国SMEE（上海微電子裝備）が28nm（ナノメートル）半導体の製造プロセスに使用するDUV（深紫外線）液浸露光装置の開発に成功し、23年末に正式

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